4 Alasan Mengapa Anda Harus Rehat Sejenak dari Makeup

Make up sudah jadi kepentingan sesehari beberapa wanita untuk membuat cantik diri. Anda dapat melakukan percobaan dengan warna-warni cantik untuk mengekspresikan diri melalui make up. Tapi, memakai make up lewat cara terus-terusan sehari-hari pun tidak baik untuk kulit Anda. Bukan bermakna Anda harus berhenti keseluruhan dari make up, tapi tak ada kelirunya untuk rehat sesaat untuk kesehatan kulit Anda.

Make up muka, terlebih yang memiliki kandungan SPF bisa menutup kulit serta membatasi oksigen keluar serta masuk dengan bebas dari pori-pori kulit. Makin kerap Anda memakai make up, dapat makin jelek juga hasilnya. Bahkan juga beberapa bahan tersendiri yg terdapat dalam make up dapat juga menyebabkan jerawat serta dehidrasi pada kulit.

Kebanyakan memakai maskara malah bakal membuat bulu mata Anda makin tampak tipis. Hentikan penggunaan maskara sepanjang beberapa waktu malah bisa kuatkan kembali bulu mata Anda.

Rehat sepanjang dua hari saja tidak dengan make up bisa membuat ketidakcocokan besar untuk warna kulit Anda. Foundation serta produk tabur condong menutup pori-pori kulit serta membuat tampak kusam, tak rata serta bahkan juga dapat membuat kulit alami dehidrasi.

Dengan bebaskan kulit dari produk make up sepanjang beberapa waktu, kulit Anda dapat bernafas serta oksigen bisa bergerak bebas tidak dengan kendala oleh berlapis-lapis make up yg Anda pakai. Bahkan juga, dengan rehat sesaat dari pemanfaatan make up bakal bersihkan pori-pori serta mengurangi ukuran pori-pori muka Anda. Karena itu, kala Anda kembali memakai make up, make up itu bakal tampak lebih halus serta prima di wajah yg fresh dengan pori-pori yg kecil.

Bila Anda memang menyintai make up, Anda tak harus berhenti menggunakan sekali-kali. Sempatkan waktu satu atau dua hari untuk rehat sesaat supaya kulit Anda terus fresh serta sehat. Ingat-ingatlah, kulit merupakan kanvas untuk make up Anda, serta supaya make up tampil prima, Anda pun perlu kanvas yg baik pun, khan?

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *